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EV 그룹(이하 EVG)은 23일 자사의 혁신적인 MLE(Maskless Exposure) 기술의 첫 번째 제품 플랫폼인 LITHOSCALE 마스크리스 노광 시스템을 출시한다고 밝혔다. 

 

LITHOSCALE은 EVG가 첨단 패키지, MEMS, 생체의료, IC 회로 기판 제조 등 높은 수준의 유연성이나 잦은 제품 변화를 요구하는 시장과 애플리케이션의 리소그래피 수요에 대응하기 위해 개발됐다. 

 

LITHOSCALE은 강력한 디지털 인프라 덕분에 처리능력을 떨어뜨리지 않으면서 전체 기판 표면에 고해상 (2미크론 L/S 이하)의 스티치 없는 마스크리스 노광을 제공하므로, 즉각적인(load and go) 마스크 레이아웃 변경은 물론, 처리능력을 극대화할 수 있도록 다중 노광 헤드 구성도 가능하다. 기존의 레티클 크기보다 큰 인터포저용으로 스티치 없는 패턴 생성이 가능한 LITHOSCALE의 능력은 첨단 그래픽 처리, 인공지능(AI), 고성능 컴퓨팅(HPC)에 요구되는 복잡한 레이아웃을 갖는 첨단 기기용으로 특히 유용하다. 

 

이 시스템의 정밀도는 왜곡이 없는 광학 정확도 및 스테이지 배치 정확도와 결합하여, 기판 전체에 걸쳐 스티치 없는 패터닝을 보장한다. 또한 LITHOSCALE은 동적 정렬 모드와, 오토 포커스(AF)를 이용한 다이 레벨 보정 기술을 채택하고 있어, 기판 재료와 표면 변화에 무관하게 최적의 오버레이 성능을 유지할 수 있다. 

 

LITHOSCALE은 다양한 기판 크기와 모양 (최대 300mm 웨이퍼, 최대 4분의 1 패널까지의 직사각형 기판)은 물론, 서로 다른 기판 및 다양한 PR(포토레지스트) 재료들을 수용할 수 있다.

 

EVG의 폴 린드너(Paul Lindner) 수석 기술 이사는 “LITHOSCALE은 애초부터 유연성과 확장성이 뛰어난 플랫폼을 염두에 두고 설계된 것으로, 마침내 디바이스 양산 제조사들이 디지털 리소그래피의 이점을 누릴 수 있게 해준다. 우리는 고객과 협력사를 대상으로 한 기술 시연을 통해 LITHOSCALE의 혜택을 받을 수 있는 응용 분야가 굉장히 다양할 뿐 아니라 하루가 다르게 더욱 확대되고 있음을 보여주었다"고 말했다.

 

EVG는 이미 LITHOSCALE에 대한 몇 건의 주문을 수주했으며, 올해 말부터 고객들에게 시스템 출하를 시작할 예정이다.

 

피엔에프뉴스 pnfnews@pnfnews.com

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